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J-GLOBAL ID：201702273112474289   整理番号：17A1723523

ナノ秒レーザパルスを用いたモノリシックシリコン結晶中の屈折率工学【Powered by NICT】

Refractive index engineering in monolithic crystalline silicon with nanosecond laser pulses

著者 (5件)： Chambonneau Maxime (Aix-Marseille University, CNRS, LP3, F-13288 Marseille, France) ,  Li Qingfeng (Aix-Marseille University, CNRS, LP3, F-13288 Marseille, France) ,  Chanal Margaux (Aix-Marseille University, CNRS, LP3, F-13288 Marseille, France) ,  Sanner Nicolas (Aix-Marseille University, CNRS, LP3, F-13288 Marseille, France) ,  Grojo David (Aix-Marseille University, CNRS, LP3, F-13288 Marseille, France)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： CLEO/Europe-EQEC  ページ： 1  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二年以上前にフェムト秒レーザを用いたガラスにおける導波路書込の出現以来[1],この三次元(3D)屈折率工学的手法は,増加している多くの用途(電気通信,光学部品の設計,など)に適していることを提供する性能を進化させてきた。しかし,この方法は,これまでシリコンにおける等価,更なる応用(例えば超高速マイクロエレクトロニクス,量子計算,センサ)のための技術的ロックを表現しない。この限界の起源であるシリコン[2]のバルクにおける集束超短レーザパルスのための避けられない顕著なプラズマ効果によるごく最近説明されてきた。これらを克服するために,ナノ秒パルス[3]を用いたシリコンの結晶相を改質する可能性に光を当てた。このようにして,この材料の屈折率工学のためのこの領域の可能性を調査する価値がある。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 通信 ,  *結晶 ,  導波路 ,  *屈折率 ,  フェムト秒レーザ ,  量子計算 ,  三次元 ,  *パルス ,  *ケイ素 ,  ガラス ,  *レーザパルス ,  マイクロエレクトロニクス
準シソーラス用語： 超高速 ,  光学部品 ,  *ナノ秒レーザ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  レーザの応用  (BD04100V)

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノ秒レーザ ,  パルス ,  シリコン結晶 ,  屈折率 ,  工学