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J-GLOBAL ID：201702273127794263   整理番号：17A1638994

SixNyマトリックス中に埋め込まれたGeナノ結晶の歪とサイズを決定するための閉じ込められたフォノンとTEMデータの相関【Powered by NICT】

Correlation of TEM data with confined phonons to determine strain and size of Ge nanocrystals embedded in SixNy matrix

著者 (3件)： Bahariqushchi Rahim (Bilkent University, Physics Department, Ankara, 06800, Turkey) ,  Guendogdu Sinan (Bilkent University, Physics Department, Ankara, 06800, Turkey) ,  Aydinli Atilla (Uludag University, Electrical and Electronics Engineering Department, Bursa, 16059, Turkey)
資料名： Superlattices and Microstructures  (Superlattices and Microstructures)
巻： 111  ページ： 90-95  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0600B  ISSN： 0749-6036  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フォノン閉込めを用いたモデルを,種々の誘電環境中におけるナノ結晶によって経験された応力変化のため,異なる誘電マトリックス中のナノ結晶サイズのための一貫した結果を与えるのに失敗した。応力の直接測定が困難な場合には,サイズの関数として応力飽和の可能性はサイズを決定するためにフォノン閉込めの使用のための窓を開くものである。Ge:Si_xN_y系におけるこの可能性の試験を報告した。窒化けい素マトリックス中に埋め込まれたGeナノ結晶(NC)を,プラズマ増強化学蒸着(PECVD)とそれに続くAr雰囲気中でポストアニーリングを用いて作製した。Ramanスペクトルのナノ結晶サイズ依存性は,関連する応力と改善されたフォノン閉込めアプローチを考慮に入れて研究した。著者らの解析は,7.0nm以下のサイズフォノン閉込めの使用を可能にするナノ結晶サイズを決定するためにを持つNCで同じ応力を示した。結果はTEMデータと比較し,良好な一致が観察された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： アルゴン ,  *フォノン ,  窒化ケイ素 ,  モデル ,  *ナノ結晶 ,  プラズマCVD ,  *ゲルマニウム ,  Ramanスペクトル
準シソーラス用語： サイズ依存性 ,  ポストアニーリング ,  直接測定 ,  応力変化 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 結晶中のフォノン・格子振動  (BL03020Z) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X)

タイトルに関連する用語 (8件)： マトリックス ,  Ge ,  ナノ結晶 ,  歪 ,  サイズ ,  フォノン ,  TEM ,  相関