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J-GLOBAL ID：201702273378853528   整理番号：17A1501869

可視光下での有機汚染物質の光触媒分解への直接ZスキームCuS WO_3システムの性能向上【Powered by NICT】

Enhanced performance of direct Z-scheme CuS-WO₃ system towards photocatalytic decomposition of organic pollutants under visible light

著者 (5件)： Song Chundong (College of Chemistry, Chemical Engineering and Environmental Engineering, Liaoning Shihua University, Fushun 113001, Liaoning, China) ,  Wang Xiang (Institute for Integrated Catalysis, Pacific Northwest National Laboratory, Richland, WA 99352, United States) ,  Zhang Jing (College of Chemistry, Chemical Engineering and Environmental Engineering, Liaoning Shihua University, Fushun 113001, Liaoning, China) ,  Chen Xuebing (College of Chemistry, Chemical Engineering and Environmental Engineering, Liaoning Shihua University, Fushun 113001, Liaoning, China) ,  Li Can (State Key Laboratory of Catalysis, Dalian Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences, Dalian, Liaoning 116023, China)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 425  ページ： 788-795  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CuS WO_3複合材料は低温でin situ溶液法により合成した。結晶相,形態,粒径,およびCuS WO_3試料の光学的性質を,XRD,SEM,XPS,及びUV-vis拡散反射スペクトルによって特性化した。CuS WO_3複合材料はWO_3とCuSと比較して,RhBの光触媒分解に対してはるかに高い活性を示した。1wt%CuS WO_3触媒上での一定分解速度はWO_3とCuSのそれよりも4.4倍と9.2倍であった。ホール(h~+)と超酸化物ラジカルアニオン(O_2~ )はスカベンジャーとしてメタノール,ジナトリウムエチレンジアミンテトラアセタート(EDTA)とアスコルビン酸を用いて主要な反応化学種であることが分かった。バンド構造解析はWO_3のCBの底部であるCuSのVBの頂上よりと非常に類似しており,高い(約0.01eV)ことを示した。PLの結果は,類似性が可能で容易なWO_3のCB上にCuSと光発生電子のVBの光生成正孔間の再結合を与え,CuS WO_3における直接Zスキームを形成することを示した。この結果がWO_3のVB中のCuSと正孔のCBにおけるより多くの電子が生存し,次にRhBの光触媒分解に参加し,増加した活性を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 超酸化物 ,  再結合 ,  複合材料 ,  アニオンラジカル ,  光学的性質 ,  *可視光 ,  *光触媒 ,  光生成 ,  スカベンジャー ,  X線回折 ,  バンド構造 ,  正孔
準シソーラス用語： 拡散反射スペクトル ,  *光触媒分解 ,  *有機汚染物質 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： CuS ,  WO_3 ,  直接Zスキーム光触媒系 ,  ローダミンB

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

タイトルに関連する用語 (5件)： 可視光 ,  有機汚染物質 ,  光触媒分解 ,  スキーム ,  性能向上