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J-GLOBAL ID：201702273462497067   整理番号：17A0255313

曲げ性を有するヘキシレン架橋ポリシルセスキオキサンに基づく低密度で透明なエアロゲルとキセロゲル

Low-density, transparent aerogels and xerogels based on hexylene-bridged polysilsesquioxane with bendability

著者 (6件)： AOKI Yosuke (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  SHIMIZU Taiyo (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KANAMORI Kazuyoshi (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  MAENO Ayaka (Kyoto Univ., Uji, JPN) ,  KAJI Hironori (Kyoto Univ., Uji, JPN) ,  NAKANISHI Kazuki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名： Journal of Sol-Gel Science and Technology  (Journal of Sol-Gel Science and Technology)
巻： 81  号： 1  ページ： 42-51  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： W0812A  ISSN： 0928-0707  CODEN： JSGTEC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ヘキシレン架橋ポリシルセスキオキサンに基づく透明なエアロゲルを調製し,一軸圧縮と三点曲げ試験で機械的性質を調べた。溶媒N,N-ジメチルホルムアミドにおける一工程塩基触媒ゾル-ゲルプロセスと超臨界乾燥で透明エアロゲルを調製した。シリカエアロゲル相対物との違いからポリシロキサンネットワークにおけるヘキシレン架橋の役割を考察した。その結果,次のことが分かった。1)結果のヘキシレン架橋ポリシルセスキオキサンエアロゲルは崩壊せずに曲げ性と圧縮性の改善を示す,2)結果のエアロゲル中の残留シラノール基が収縮-再膨張挙動を抑制するのでヘキサメチルジシラザンを用いる液相後処理はシラノール基を最少にするように行われる必要がある,3)n-ヘキサンからの蒸発乾燥は良好な透明性と低密度のモノリスキセロゲルの結果となる。

シソーラス用語： *ポリシルセスキオキサン ,  架橋【高分子】 ,  *エアロゲル ,  *キセロゲル ,  *機械的性質 ,  特性 ,  圧縮性 ,  ゾル-ゲル法 ,  基
準シソーラス用語： 曲げ性 ,  シラノール基

分類 (2件)： 機械的性質  (YH02022L) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 曲げ性 ,  架橋 ,  ポリシルセスキオキサン ,  低密度 ,  エアロゲル ,  キセロゲル