文献

J-GLOBAL ID：201702274109074716   整理番号：17A0850687

堆積したままと高速熱アニールしたPr-Fe薄膜の磁気的挙動【Powered by NICT】

Magnetic behaviour of as-deposited and rapid thermal annealed Pr-Fe thin films

著者 (7件)： Balakrishna M. (Defence Metallurgical Research Laboratory, Hyderabad, India) ,  Balakrishna M. (Department of Metallurgical and Materials Engineering, Rajiv Gandhi University for Knowledge Technologies, Basar Campus, Telangana, India) ,  Arout Chelvane J. (Defence Metallurgical Research Laboratory, Hyderabad, India) ,  Basumatary Himalay (Defence Metallurgical Research Laboratory, Hyderabad, India) ,  Palit Mithun (Defence Metallurgical Research Laboratory, Hyderabad, India) ,  Sridhara Rao D. (Defence Metallurgical Research Laboratory, Hyderabad, India) ,  Kamat S.V. (Defence Metallurgical Research Laboratory, Hyderabad, India)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 629  ページ： 6-10  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 構造では,電子ビーム蒸着したPr-Fe薄膜の微細構造と磁気挙動は,堆積したままと急速熱焼なまし状態で調べた。膜は室温でSi<100>基板上に堆積した。X線回折を用いた構造研究を行い,堆積したままの膜は本質的に完全に非晶質であることを示した。急速熱アニーリングにより,Fe相の存在がX線回折パターンから観察された。電界放出銃走査電子顕微鏡研究は,アニーリング温度の上昇と共に増加する核形成サイトの数と非晶質Pr-Feマトリックスに囲まれたFeナノ結晶粒の存在を確認した。磁化研究は,堆積したままの膜の弱い強磁性挙動を示した急速熱アニールした膜はFeナノ結晶粒の存在のために強い面内磁気異方性を示した。面内磁化曲線から推定した飽和磁化は450°Cまでのアニーリング温度の上昇と共に増加することが分かった550°Cにアニーリング温度がさらに増加すると,減少した。約1.6kA/mの最小保磁力が450°CでアニールしたPr-Fe膜で観察された。磁歪測定は450°Cまでのアニーリング温度の上昇と共に磁気ひずみの増加を示した。約100株の最大磁歪は450°Cでアニールした膜で達成された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 電子ビーム蒸着 ,  *鉄 ,  *RTA【熱処理】 ,  保磁力 ,  微細構造 ,  *薄膜 ,  磁歪 ,  ナノ結晶 ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  磁化 ,  非晶質 ,  飽和磁化 ,  面内磁気異方性 ,  アニーリング温度

著者キーワード (3件)： 磁気的性質 ,  磁歪 ,  Microstructure

分類 (3件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固相転移  (BL04020G)

タイトルに関連する用語 (6件)： 堆積 ,  高速熱アニール ,  Pr ,  Fe ,  薄膜 ,  磁気的挙動