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J-GLOBAL ID：201702274155385446   整理番号：17A1547634

炭化水素高分子電解質膜の低湿度プロトン伝導を強化するためのシリカ埋込ヒドロゲルナノ充填材【Powered by NICT】

Silica-embedded hydrogel nanofiller for enhancing low humidity proton conduction of a hydrocarbon-based polymer electrolyte membrane

著者 (5件)： Oh Keun-Hwan (Future Technology Center Corporate R&D, LG Chem Ltd., 188, Munji-ro, Yuseong-gu, Daejeon 305-380, Republic of Korea) ,  Bae Insung (Future Technology Center Corporate R&D, LG Chem Ltd., 188, Munji-ro, Yuseong-gu, Daejeon 305-380, Republic of Korea) ,  Lee Hongkyung (Department of Chemical and Biomolecular Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST), 291, Daehak-ro, Yuseng-gu, Daejeon 305-701, Republic of Korea) ,  Kim Hyuk (Future Technology Center Corporate R&D, LG Chem Ltd., 188, Munji-ro, Yuseong-gu, Daejeon 305-380, Republic of Korea) ,  Kim Hee-Tak (Department of Chemical and Biomolecular Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST), 291, Daehak-ro, Yuseng-gu, Daejeon 305-701, Republic of Korea)
資料名： Journal of Membrane Science  (Journal of Membrane Science)
巻： 543  ページ： 106-113  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0669A  ISSN： 0376-7388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低相対湿度(RH)での小さなプロトン伝導は,高分子電解質膜燃料電池(PEMFC)用の炭化水素(HC)膜を採用するための課題として残っている。,低RH条件下でHC膜の性能を改善するための貯水池としてシリカに埋め込んだヒドロゲル(HGシリカ)ナノ充填剤を報告した。スルホン化ポリ(アリーレンエーテルケトン)(SPAEK)膜へのHGシリカの取り込みは,低RHで,プロトン伝導率を増加した。低RH条件下での電力性能もSPAEK膜にHGシリカの添加により改善された。,適切に構造化ヒドロゲルナノ充填剤は低RH条件下でのPEMFC性能を改善する方法を提供することができる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *湿度 ,  構造形成 ,  相対湿度 ,  スルホン化 ,  *プロトン伝導 ,  複合膜 ,  貯水池 ,  *炭化水素 ,  *二酸化ケイ素 ,  *ヒドロゲル ,  電力 ,  *充填材料
準シソーラス用語： プロトン伝導率 ,  ナノフィラー ,  *高分子電解質膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 複合膜 ,  炭化水素膜 ,  ヒドロゲル ,  低湿度 ,  シリカ

分類 (2件)： 燃料電池  (YB04040V) ,  膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (9件)： 炭化水素 ,  高分子電解質膜 ,  湿度 ,  プロトン伝導 ,  強化 ,  シリカ ,  埋込 ,  ヒドロゲル ,  充填材