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J-GLOBAL ID：201702274179614644   整理番号：17A1810910

耐熱性試験下におけるポリカーボネート上シリコーンのF₂レーザ誘起光化学表面改質で形成したSiO₂膜の亀裂進展抑制に対する表面テクスチャリングの効果

Surface texturing effect on crack suppression of SiO₂ film formed by F₂ laser-induced photochemical surface modification of silicone on polycarbonate under heat resistance test

著者 (3件)： NOJIRI Hidetoshi (National Defense Acad., Kanagawa, JPN) ,  NOJIRI Hidetoshi (Renias Co., Ltd., Hiroshima, JPN) ,  OKOSHI Masayuki (National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 56  号： 8  ページ： 085502.1-085502.7  発行年： 2017年08月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 自動車の窓材としての利用のために,スチールウールによる追加ラビング処理により,100および120°C,3hの耐熱性試験下でも亀裂のないSiO₂膜をシリコーン被覆ポリカーボネート(PC)上に成功裏に作製した。このSiO₂膜はPC上のシリコーンの157nmのF₂レーザ誘起光化学表面改質によって形成された。この改質SiO₂はさらにレーザ照射中にメッシュマスクによって領域分割されている。この領域分割SiO₂層はレーザ照射中の亀裂を抑制するのに効果的である。しかし,領域分割層であっても耐熱性試験下では亀裂を生じた。共焦点レーザ顕微鏡法による試料表面の観察に基づいてこの亀裂する機構を解析した。ラビングした試料は高い耐熱性を示した。原子間力顕微鏡観察により,改質SiO₂層の表面がテクスチャ化されているのがはっきり観察され,これがSiO₂とPC上のシリコーンの間の熱膨張係数の大きな差を低減させ,したがって光学的な透明度を維持している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： ポリカーボネート ,  *ポリシロキサン ,  *気体レーザ ,  光化学 ,  *表面改質 ,  *二酸化ケイ素 ,  *被覆 ,  耐熱性 ,  試験 ,  抑制 ,  亀裂伝搬 ,  部品 ,  ラビング ,  セグメンテーション ,  *レーザ照射 ,  熱膨張係数 ,  *透明度 ,  時間 ,  引張応力 ,  微小亀裂 ,  熱膨張 ,  軽量化 ,  光CVD
準シソーラス用語： *フッ素レーザ ,  亀裂進展 ,  亀裂抑制 ,  自動車用部品 ,  照射時間 ,  表面テクスチャリング

分類 (3件)： 表面処理  (YH04112X) ,  無機重合体  (YH07140R) ,  レーザの応用  (BD04100V)

引用文献 (31件)：

• K. Nishino, Sekai no Nenpikisei no Shinten to Jidosha Sangyo no Taio (Mitsui Bussan Senryaku Kenkyusho, Tokyo, 2017) p. 6 [in Japanese].
• D. Imanishi, Nikkei Automotive 9, 52 (2015) [in Japanese].
• H. Fukui, New Glass 25, 24 (2010) [in Japanese].
• H. Fukui, Jidosha Madogarasu no Jushika (Gijutsu Joho Kyokai, Tokyo, 2010) p. 29 [in Japanese].
• K. Kirwan and G. Smith, Plast. Rubber Compos. 33, 452 (2004).

タイトルに関連する用語 (11件)： 耐熱性 ,  試験 ,  ポリカーボネート ,  シリコーン ,  F2レーザ ,  誘起 ,  光化学 ,  表面改質 ,  SiO2 ,  亀裂進展 ,  表面テクスチャリング