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J-GLOBAL ID：201702274488478805   整理番号：17A0282638

感光性樹脂組成物及びその使用

資料名： 公知技術
号： 275  ページ： 1-108  発行年： 2017年02月21日 
JST資料番号： L3022A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本稿では,特定の樹脂を含むフォトレジスト組成物,それを使用したパターン形成方法について報告する。フォトレジスト組成物とは,半導体材料の作製プロセスにおいて微細パターン形成のために使用される感光性樹脂組成物である。(著者抄録)

シソーラス用語： *フォトレジスト ,  *パターン形成 ,  半導体プロセス ,  調合品 ,  分子構造 ,  放射線照射 ,  露光 ,  微細構造 ,  光照射 ,  調合 ,  有機溶媒 ,  現像液 ,  化学合成 ,  置換基効果 ,  基
準シソーラス用語： *微細パターン形成 ,  置換基

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (1件)： 感光性樹脂組成物