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J-GLOBAL ID：201702274735371844   整理番号：17A1561305

MgO(001)基板上のCo超薄膜における異方性,磁化反転と減衰の研究【Powered by NICT】

Study of anisotropy, magnetization reversal and damping in ultrathin Co films on MgO (001) substrate

著者 (2件)： Mallik Srijani (Laboratory for Nanomagnetism and Magnetic Materials (LNMM), School of Physical Sciences, National Institute of Science Education and Research (NISER), HBNI, P.O.-Bhimpur Padanpur, Jatni 752050, India) ,  Bedanta Subhankar (Laboratory for Nanomagnetism and Magnetic Materials (LNMM), School of Physical Sciences, National Institute of Science Education and Research (NISER), HBNI, P.O.-Bhimpur Padanpur, Jatni 752050, India)
資料名： Journal of Magnetism and Magnetic Materials  (Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻： 446  ページ： 270-275  発行年： 2018年 
JST資料番号： H0644A  ISSN： 0304-8853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 厚さ3nmの超薄Co膜は基板予備アニーリングの存在下または非存在下でMgO(001)基板上に作製した。斜めの入射角で蒸着による試料において誘導される一軸異方性。斜め蒸着誘起異方性に加えて,もう一つの一軸異方性の寄与は予備アニーリングに起因して観察された。しかし,立方異方性は観測されなかったより厚い膜と比較した。角度依存強磁性共鳴(FMR)測定は互いに~18°不整合をもつプレアニールした試料中の二異方性の存在を確認した。二異方性定数を,超伝導量子干渉素子(SQUID)磁気測定と強磁性共鳴分光法から計算した。磁化反転は核形成が優勢な余効とそれに続くプレアニールした試料の磁壁運動により支配される。分岐ドメインは,Coの粒体方位障害を示す焼なましなしで調製した試料で観察された。しかし,厚い(25nm)Co膜におけるリップルドメインは超薄(3nm)膜と対照的に観察された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *異方性 ,  核形成 ,  一軸 ,  不整合 ,  *磁化反転 ,  *酸化マグネシウム ,  SQUID ,  焼なまし ,  角度依存性 ,  *超薄膜 ,  磁気測定 ,  入射角 ,  強磁性共鳴
準シソーラス用語： 磁壁移動 ,  斜め蒸着 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 超薄膜 ,  磁化反転 ,  磁区 ,  強磁性共鳴

分類 (2件)： 金属の磁気異方性・磁気機械効果  (BM06102S) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (7件)： MgO ,  CO ,  超薄膜 ,  異方性 ,  磁化反転 ,  減衰 ,  研究