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J-GLOBAL ID：201702274810828137   整理番号：17A0544739

Cu(111)でのCOの電気化学還元によるC₁およびC₂生成物の選択性についての基礎となる原子論的メカニズム

Atomistic Mechanisms Underlying Selectivities in C₁ and C₂ Products from Electrochemical Reduction of CO on Cu(111)

著者 (3件)： XIAO Hai (California Inst. of Technol., California, USA) ,  CHENG Tao (California Inst. of Technol., California, USA) ,  GODDARD William A., III (California Inst. of Technol., California, USA)
資料名： Journal of the American Chemical Society  (Journal of the American Chemical Society)
巻： 139  号： 1  ページ： 130-136  発行年： 2017年01月11日 
JST資料番号： C0254A  ISSN： 0002-7863  CODEN： JACSAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： DFT計算によって,水溶液(pH:1,7,13)中のCOのCu(111)上での電気化学還元による,C₁(メタン,メタノール)およびC₂化合物(エタノール,アセチレン,エタン,エチレン)の生成メカニズムについて調べた。吸着CHOH基の電気化学的還元脱水過程については,吸着H(A)または吸着H₂Oが関与するLangmuir-Hinshelwood機構(B)および水和プロトンが関与するEley-Rideal機構(C)を検討した。AとCでは反応の活性化自由エネルギー(ΔG^‡)や自由エネルギー変化(ΔG)はpHに依存するが,Bでは,ΔGはpHに依存するが,ΔG^‡はpHに依存しないことおよび速度論的な要因でメタノールやエタノール,アセチレン,エタンなどの生成は不利であることを示した。計算結果を確認するためのプローブ分子を利用した実験方法を提案した。

シソーラス用語： *結晶面 ,  *銅 ,  *カソード還元 ,  *一酸化炭素 ,  *機構 ,  pH依存性 ,  プローブ ,  Gibbs自由エネルギー ,  Langmuir-Hinshelwood機構 ,  脱水反応 ,  反応機構 ,  反応速度論 ,  化学種 ,  密度汎関数法 ,  アルキン ,  脂肪族アルコール ,  アルカン ,  アルケン
準シソーラス用語： *Cu(111) ,  Eley-Rideal機構 ,  吸着種 ,  *生成メカニズム

分類 (1件)： 電気化学反応  (CB07050F)

物質索引 (6件)： アセチレン ,  エタノール ,  エタン ,  エチレン ,  メタノール ,  メタン

タイトルに関連する用語 (9件)： Cu ,  CO ,  電気化学還元 ,  C1 ,  C2 ,  生成物 ,  選択性 ,  基礎 ,  メカニズム