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J-GLOBAL ID：201702274914669489   整理番号：17A1267523

被覆写像とその応用【Powered by NICT】

Covering mappings and their applications

著者 (2件)： Arutyunov Aram V. (RUDN University, 6 Miklukho-Maklaya st., Moscow, 117198 Russia) ,  Zhukovskiy Sergey E. (RUDN University, 6 Miklukho-Maklaya st. Moscow, 117198 Russia)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： CNSA  ページ： 1-3  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,一致点存在に関するいくつかの結果を議論した。距離空間,一般化された距離空間,半順序集合に作用する二写像の一致点定理を提示した。存在定理は写像の観点から述べた。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 半順序 ,  *被覆 ,  *写像 ,  距離空間

分類 (1件)： 計算理論  (JB02000A)

タイトルに関連する用語 (2件)： 写像 ,  応用