文献
J-GLOBAL ID:201702275017353285   整理番号:17A1498188

純粋な非晶質けい素における単一および複合構造欠陥の解析:第一原理研究【Powered by NICT】

Analysis of single and composite structural defects in pure amorphous silicon: A first-principles study
著者 (2件):
資料名:
巻: 473  ページ: 64-73  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0642A  ISSN: 0022-3093  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
非晶質シリコン(a Si)の構造及び電子特性を密度汎関数理論(DFT)に基づく第一原理計算により調べ,固有構造欠陥に焦点を当てた。Car-Parrinello分子動力学(CPMD)による結晶シリコンモデルのシミュレートされた溶融と急冷により,いくつかの異なるa-Si試料における3倍(T_3),5(T_5),と異常4倍(4a)欠陥が含まれているを生成した。試料を用いて,a-Si:Hの不規則構造は,状態密度(DOS)の特性にどのように影響するか明らかにした。続いて,得られた試料の欠陥錯体の性質,三T5欠陥から構成されているものを調べ,欠陥複合体のための条件を示すエネルギー的に安定であった。最後に,a-Si:HにおけるT_5欠陥の水素不動態化プロセスを調べ,T_5の水素化は発熱反応であることを,二T_5部位を不動態化するためにH_2分子の活性化エネルギーは1.05eVであると計算されることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
太陽電池  ,  13-15族化合物を含まない半導体-半導体接合 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る