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J-GLOBAL ID:201702275224148507   整理番号:17A0311846

新しいハイブリッドモノリスシリカしょ糖キセロゲルの構造的および光学的性質に及ぼすガンマ線の影響【Powered by NICT】

Effect of gamma rays on the structural and optical properties of a new hybrid monolith silica sucrose xerogel
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巻: 42  号: 10  ページ: 12180-12184  発行年: 2016年08月 
JST資料番号: H0705A  ISSN: 0272-8842  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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しょ糖を含む新しいハイブリッドモノリスシリカキセロゲルをゾル-ゲル法により合成した。得られたスクロースシリカキセロゲルは100kGyの範囲の線量でガンマ線照射に曝露した。しょ糖シリカキセロゲルの物理的及び構造的性質に及ぼすガンマ線の影響を,Fourier変換赤外分光法(FTIR)及び紫外可視分光法により調べた。FTIR分光法の結果は,照射プロセスは欠陥を誘導することによりネットワークの構造の変化を引き起こすことを示した。UV可視スペクトルは三つの主バンド欠陥を示した;照射したスクロースシリカキセロゲル試料中のE′中心,非架橋酸素正孔中心(NBOHC)とカルボニルラジカル。さらに,結果は,光学バンドギャップエネルギーの値は照射に依存することを示した。,生成された欠陥はしょ糖シリカキセロゲルの挙動は,ガンマ線照射下での絶縁体(Eg=5.82eV)から半導体(Eg=3.16eV)であったことを示唆した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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セラミック・磁器の性質  ,  光化学一般 
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