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J-GLOBAL ID:201702275504931264   整理番号:17A0776548

半導体材料・デバイスの最新の進展 4.電着法による酸化亜鉛の薄膜および厚膜の成長

Recent Advancement of Semiconductor Materials and Devices IV: Zinc Oxide Thin and Thick Film Growth by Electrochemical Deposition
著者 (1件):
資料名:
巻: 66  号:ページ: 312-317(J-STAGE)  発行年: 2017年 
JST資料番号: F0385A  ISSN: 0514-5163  CODEN: ZARYA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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・電着法により,硝酸亜鉛水溶液を使って,ZnO結晶成長を行い,結晶粒の発生メカニズムの検討,位置選択成長,及びZnO厚膜成長について検討。
・基板としては,n-GaN,HOPGを使用。
・結晶配向性の原因となる要因の実験による検討,及び厚膜成長を目指した高配向性のZnO厚膜を得る試みを実施。
・基板がn-GaNのとき,光照射を行うことにより,成長時間にして最大120時間,厚さ140μmのZnO厚膜の成長に成功。
・成長時間20時間,厚さ26μmのX線ロッキングカーブ半値幅は評価装置の分解能である0.15°と良好なことが判明。
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分類 (2件):
分類
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半導体薄膜  ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造 
引用文献 (25件):
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