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J-GLOBAL ID：201702275636490732   整理番号：17A1168683

良性溶媒を用いた絹フィブロインのナノスケールパターン形成可能な膜の作製【Powered by NICT】

Fabrication of Nanoscale Patternable Films of Silk Fibroin Using Benign Solvents

著者 (7件)： Bucciarelli Alessio (Department of Industrial Engineering, University of Trento, Via Sommarive 9, 38123-Povo, TN, Italy) ,  Pal Ramendra K. (Department of Chemical and Life Science, Virginia Commonwealth University, 601 West Main St., Richmond, VA, 23284-3028, USA) ,  Maniglio Devid (Department of Industrial Engineering, University of Trento, Via Sommarive 9, 38123-Povo, TN, Italy) ,  Quaranta Alberto (Department of Industrial Engineering, University of Trento, Via Sommarive 9, 38123-Povo, TN, Italy) ,  Mulloni Viviana (MicroSystems Technology Research Unit, Fondazione Bruno Kessler, Via Sommarive 18, 38123-Povo, TN, Italy) ,  Motta Antonella (Department of Industrial Engineering, University of Trento, Via Sommarive 9, 38123-Povo, TN, Italy) ,  Yadavalli Vamsi K. (Department of Chemical and Life Science, Virginia Commonwealth University, 601 West Main St., Richmond, VA, 23284-3028, USA)
資料名： Macromolecular Materials and Engineering  (Macromolecular Materials and Engineering)
巻： 302  号： 7  ページ： ROMBUNNO.201700110  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0557A  ISSN： 1438-7492  CODEN： MMENFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 絹蛋白質フィブロインは生物学的実体に影響する構造を形成するために広く使用されているwondrous生体高分子である。組織足場,スポンジ,膜に加えて,生化学的に修飾したフィブロインは,ミクロおよびナノ加工システムに対するそれらのレパートリーを拡張するためのフォトリソグラフィーとソフトリソグラフィーのような技術に関連して使用できる。今日まで,ヘキサフルオロ 2 イソプロパノール(HFIP)の使用は,フィブロインとフィブロインの溶媒「レジスト」として普及してきたが,高揮発性,毒性,コスト,及び専門処分の必要性は,代替溶媒の必要性を示した。さらに,光学およびバイオエレクトロニクスのような応用のための,平滑,薄い(~100nm以下)フィブロイン膜は前提条件,HFIPを用いて容易に達成されないした。ここでは,持続可能な溶媒としてのぎ酸(FA)の使用は,絹フィブロインとフィブロイン「レジスト」材料を示し,特にマイクロ-及びナノスケール応用において魅力的である。高均一性,平滑性,および光透過性の安定な薄膜の再現性のある形成と特性化を実証した。批判的に言えば,これらの膜はベンチトップリソグラフィー技術を用いた蛋白質の高分解能光パターン形成に用いることができる。研究は,FAが次世代絹に基づく光学デバイスを作製するための平滑,薄膜およびマイクロスケール構造を形成するための比較的良性と最適溶媒であることを示した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 光学素子 ,  光透過 ,  レジスト ,  *フィブロイン ,  ナノメータ加工 ,  薄膜 ,  生体高分子 ,  高分解能 ,  フォトリソグラフィー ,  *絹 ,  再現性 ,  *パターン形成 ,  キャラクタリゼーション
準シソーラス用語： *ナノスケール ,  *絹フィブロイン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： グリーン溶媒 ,  微細加工 ,  フォトリソグラフィー ,  絹フィブロイン ,  薄膜

分類 (1件)： 蛋白質・ペプチド一般  (EB03010N)

タイトルに関連する用語 (5件)： 溶媒 ,  絹フィブロイン ,  ナノスケール ,  パターン形成 ,  作製