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J-GLOBAL ID:201702275916344164   整理番号:17A1056807

マグネトロンスパッタリングにより作製した二酸化チタンを同時ドープした高水分と弱酸性GaドープZnO膜【Powered by NICT】

Highly moisture and weak-acid resistant Ga-doped ZnO films with titanium dioxide co-doping fabricated by magnetron sputtering
著者 (8件):
資料名:
巻: 634  ページ: 155-159  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,GZOターゲットへのTiO_2共ドーピングによるガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)薄膜の湿熱安定性と弱酸耐性を改善するための戦略を提案した。結果はターゲット中の0.2wt%TiO_2共ドーピング(GTZO)を持つGZO薄膜は5.1×10~ 4Ωcmの抵抗率と82.9%の平均透過率を示した。シート抵抗の相対的変化は,121°Cで相対湿度97%の条件で24時間高温高湿処理後5.1%であった。高ヘイズ値を有するクレータ型テクスチャ化表面は1vo1%HCl溶液に浸漬し10分後にGTZO薄膜では見られなかった。これらの結果は,GTZO薄膜は,極端な屋外条件における透明電極としての使用の大きな可能性を持つことを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
分類
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酸化物薄膜  ,  固-液界面 

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