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J-GLOBAL ID:201702275930822129   整理番号:17A1921675

HfO2/SiO2反射膜の損傷形態に及ぼす1064nmレーザ前処理の影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Effect of 1064 nm laser conditioning on damage morphology change process on HfO2/SiO2 reflective film
著者 (6件):
資料名:
巻: 46  号:ページ: 56-62  発行年: 2017年 
JST資料番号: C2521A  ISSN: 1007-2276  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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ナノ秒レーザパルスによるHfO2/SiO2反射膜の損傷形態変化に及ぼす異なるレーザ前処理パラメータの影響を実験的に調べた。二種類の損傷拡張性と薄膜の機能性破壊メカニズムを比較することにより、レーザー前処理技術の重要な意義は損傷形態の転化過程を抑制することである。薄膜の損傷形態の分析により、レーザー前処理の作用機序は、腫瘍の欠陥の除去と亜表面吸収前駆体の形成の二つの方面の総合作用であることが明らかになった。実験結果は以下を示す。前処理後,膜の損傷形態形質転換曲線はより高い流束とより多くの方向にシフトした。既存のプロセスにおける薄膜に対して、高流束、二段階の前処理パラメータの組合せを採用することで、効率の最適な収益を得ることができ、そのゼロ数の損傷形態の転化閾値が最も高い140%を上げることができる。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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レーザ照射・損傷 

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