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J-GLOBAL ID：201702275978925401   整理番号：17A1834316

フェムト秒レーザを用いたグラフェン酸化物の光還元:光熱および光化学的寄与【Powered by NICT】

Photoreduction of graphene oxides using a femtosecond laser: Photothermal and photochemical contributions

著者 (5件)： Lim Chin Huat Joel (Singapore Centre for 3D Printing, School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore 639798) ,  Munji Low (Singapore Centre for 3D Printing, School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore 639798) ,  Lee Hyub (Singapore Centre for 3D Printing, School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore 639798) ,  Murukeshan Vadakke Matham (Singapore Centre for 3D Printing, School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore 639798) ,  Kim Young-Jin (Singapore Centre for 3D Printing, School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore 639798)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： CLEO-PR  ページ： 1-3  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フェムト秒レーザ直接描画(FsLDW)を用いて酸化グラフェン(GO)膜の光還元は光還元過程における光化学および光熱効果の寄与を調べるために,343nmと515nmの波長で調べた。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *光化学 ,  *フェムト秒レーザ ,  *フェムト秒 ,  波長 ,  *光還元
準シソーラス用語： 光熱効果 ,  レーザ直接描画 ,  *酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (4件)： フェムト秒レーザ ,  グラフェン酸化物 ,  光還元 ,  光化学