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J-GLOBAL ID:201702276997592065   整理番号:17A0496071

結晶性珪素のフラグメントの合成:ポリ(シクロシラン)

Synthesis of a Fragment of Crystalline Silicon: Poly(Cyclosilane)
著者 (6件):
資料名:
巻: 56  号:ページ: 568-572  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0127B  ISSN: 1433-7851  CODEN: ACIEAY  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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結晶性珪素によって着想された構造の明確な重合体であるポリ(シクロシラン)の戦略的合成を報告した。合成戦略は遷移金属促進デヒドロカップリング重合のための官能化シクロヘキサシラン単量体の設計に依存した。著者らの方法は,新規なα,ω-オリゴシラニルジアニオンの合成および潜在的吸電子体としての両方の重要な役割を果たすフェニルシリル基の二重の機能という長所を有した。著者らはシクロヘキサシラン単量体が椅子形配座を優先することを示した。単量体設計はメチルフェニルシランのような第二アミンと比較して遷移金属促進デヒドロカップリング重合における増大した反応性を確実にした。包括的なNMR分光法は重合体末端基構造および微細構造の詳細な状態を与えた。ポリ(シクロシラン)は単量体に対して赤方偏移した光吸収を有した。著者らは接触的ヒドロシリル化によってσ-πハイブリッドドナー-アクセプタ重合体を合成した。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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