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J-GLOBAL ID：201702277133236994   整理番号：17A0869451

Ar⁺ + H₂電荷移動反応における状態から状態への反応性散乱のイメージング

Imaging state-to-state reactive scattering in the Ar⁺ + H₂ charge transfer reaction

著者 (6件)： Michaelsen Tim (Institut fuer Ionenphysik und Angewandte Physik, Universitaet Innsbruck, Technikerstrasse 25/3, 6020 Innsbruck, Austria) ,  Bastian Bjorn (Institut fuer Ionenphysik und Angewandte Physik, Universitaet Innsbruck, Technikerstrasse 25/3, 6020 Innsbruck, Austria) ,  Carrascosa Eduardo (Institut fuer Ionenphysik und Angewandte Physik, Universitaet Innsbruck, Technikerstrasse 25/3, 6020 Innsbruck, Austria) ,  Meyer Jennifer (Institut fuer Ionenphysik und Angewandte Physik, Universitaet Innsbruck, Technikerstrasse 25/3, 6020 Innsbruck, Austria) ,  Parker David H. (Department of Molecular and Laser Physics, Institute for Molecules and Materials, Radboud University, Heyendaalseweg 135, 6525 AJ Nijmegen, The Netherlands) ,  Wester Roland (Institut fuer Ionenphysik und Angewandte Physik, Universitaet Innsbruck, Technikerstrasse 25/3, 6020 Innsbruck, Austria)
資料名： Journal of Chemical Physics  (Journal of Chemical Physics)
巻： 147  号： 1  ページ： 013940-013940-8  発行年： 2017年07月07日 
JST資料番号： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： H₂およびD₂とAr⁺との電荷移動反応を,三次元速度マップイメージングと交差ビームを結びつけた実験で調べた。2つの衝突エネルギーに対する角度微分断面積を,両中性種に対して得た。生成物イオンは高度に内部励起していることを見出した。H₂との反応では,“共鳴”振動励起生成物H₂ ⁺ (υ=2)へのスピン軌道励起Ar⁺状態のカップリングが,調べた両方のエネルギーに関して支配的であり,以前の研究と一致している。しかしながら,観測された角度分布は,以前見出されたより著しく後方散乱が少ない。さらに,生成物イオンは高度に回転励起していることを発見した。D₂と反応しているAr⁺の場合には,エネルギー的に最近接している振動準位は,厳密に選択されているわけではなく,より高い振動準位にもポピュレートされている。両化学種に関して,後方散乱生成物はより高い内部励起を示している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *アルゴン ,  *水素 ,  *電荷移動反応 ,  *反応性散乱 ,  *画像処理 ,  交差ビーム分光法 ,  衝突エネルギー ,  微分断面積 ,  スピン-軌道相互作用 ,  角分布 ,  後方散乱 ,  回転励起 ,  振動準位
準シソーラス用語： *水素分子 ,  *速度マップイメージング ,  スピン・軌道結合 ,  角度分布

分類 (2件)： 分子間相互作用  (BH07020P) ,  質量分析  (CC03013N)

タイトルに関連する用語 (4件)： H2 ,  電荷移動反応 ,  反応性散乱 ,  イメージング