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J-GLOBAL ID：201702277432705189   整理番号：17A0632811

単層グラフェンオキシドの大気圧下における高速低温プラズマ還元

Fast low-temperature plasma reduction of monolayer graphene oxide at atmospheric pressure

著者 (10件)： BODIK Michal (Comenius Univ. in Bratislava, Bratislava, SVK) ,  BODIK Michal (Inst. of Physics, Slovak Acad. of Sci., Bratislava, SVK) ,  ZAHORANOVA Anna (Comenius Univ. in Bratislava, Bratislava, SVK) ,  MICUSIK Matej (Polymer Inst., Slovak Acad. of Sci., Bratislava, SVK) ,  BUGAROVA Nikola (Polymer Inst., Slovak Acad. of Sci., Bratislava, SVK) ,  SPITALSKY Zdenko (Polymer Inst., Slovak Acad. of Sci., Bratislava, SVK) ,  OMASTOVA Maria (Polymer Inst., Slovak Acad. of Sci., Bratislava, SVK) ,  MAJKOVA Eva (Inst. of Physics, Slovak Acad. of Sci., Bratislava, SVK) ,  JERGEL Matej (Inst. of Physics, Slovak Acad. of Sci., Bratislava, SVK) ,  SIFFALOVIC Peter (Inst. of Physics, Slovak Acad. of Sci., Bratislava, SVK)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 28  号： 14  ページ： 145601,1-8  発行年： 2017年04月07日 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水溶液からLangmuir-Schaefer法によりケイ素基板上にグラフェンオキシド薄膜を形成した。原子間力顕微鏡,X線光電子スペクトル,Ramanスペクトル,紫外可視吸収スペクトルによりキャラクタリゼーションを行った。拡散共平面表面障壁放電により低温プラズマ還元が迅速に進行し,還元グラフェンオキシド薄膜が生成した。反応は極めて速く,1秒間の処理でグラフェンオキシド中の酸素含有量は半減した。還元ガスとしてメタン/水素を用い5秒間の処理により水素/メタン還元法と同程度の酸素含有量の還元グラフェンオキシドが得られた。

シソーラス用語： *グラフェン ,  *酸化物 ,  *プラズマ処理 ,  *還元 ,  水溶液 ,  Langmuir膜 ,  ウエハ【IC】 ,  原子間力顕微鏡 ,  X線光電子スペクトル ,  Ramanスペクトル ,  紫外可視吸収スペクトル ,  無声放電 ,  気固界面 ,  *薄膜 ,  *不均一系反応 ,  アルカン
準シソーラス用語： Langmuir-Schaefer膜 ,  *グラフェンオキシド ,  ケイ素基板 ,  界面反応 ,  *還元型グラフェンオキシド ,  酸素含有量 ,  水素還元 ,  誘電障壁放電

分類 (4件)： その他の無触媒反応  (CB06070U) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (1件)： メタン

タイトルに関連する用語 (5件)： 単層グラフェン ,  オキシド ,  大気圧 ,  低温プラズマ ,  還元