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J-GLOBAL ID：201702277525740072   整理番号：17A0450982

励起状態メタ効果に基づく光に不安定な保護基の開発【Powered by NICT】

Developing photolabile protecting groups based on the excited state meta effect

著者 (1件)： Wang Pengfei (Department of Chemistry, University of Alabama at Birmingham, Birmingham, AL 35294, USA)
資料名： Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry  (Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry)
巻： 335  ページ： 300-310  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0721B  ISSN： 1010-6030  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 著者らは最近,カルボニル,ヒドロキシル,ジオール,カルボキシルおよびアミノ官能基の効率的な放出のための光分解性保護基(PPG)の数を開発した。これらの新しいPPGは励起状態メタ効果に基づいて設計した。構造単純性,容易な調製,柔軟な構造修飾,多様な保護法,高い保護および脱保護効率を含む共通の特徴,照射時の雰囲気条件の耐性,および化学的処理に対して顕著な安定性を共有している。有機合成,ケージング,材料科学を含む広範囲の応用において潜在的に有用である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 光分解 ,  材料科学 ,  カルボニル基 ,  脱保護基 ,  ジオール ,  *励起状態 ,  アミノ基
準シソーラス用語： ケージング ,  有機合成 ,  *保護基 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  有機化合物のルミネセンス  (BM08094A)

タイトルに関連する用語 (3件)： 励起状態 ,  保護基 ,  開発