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J-GLOBAL ID:201702277560808013   整理番号:17A1359499

三方晶c面サファイア上の立方晶SiGeの菱面体晶超ヘテロエピタクシー【Powered by NICT】

Rhombohedral super hetero epitaxy of cubic SiGe on trigonal c-plane sapphire
著者 (2件):
資料名:
巻: 2017  号: SUM  ページ: 101-102  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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新しい菱面体晶超ヘテロエピタクシー技術はNASAで開発された。エピタキシー技術をサファイア(Al_2O_3)基板上に格子整合を有する前例のない立方晶-三方晶ハイブリッド単結晶構造の成長を可能にし,従って歪少なく界面で非常に欠陥の少ない。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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その他の無機化合物の薄膜  ,  半導体薄膜 

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