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J-GLOBAL ID：201702277625833470   整理番号：17A0486638

MoSi₂-Si₃N₄-WSi₂/Mo拡散対における中間相の成長速度とミクロ組織の変化

Growth Kinetics and Microstructure Evolution of Intermediate Phases in MoSi₂-Si₃N₄-WSi₂/Mo Diffusion Couples

著者 (5件)： ZHANG Houan (Xiamen Univ. Technol., Fujian, CHN) ,  HUANG Yu (Xiamen Honglu Tungsten Molybdenum Ind. Co. Ltd, Xiamen, CHN) ,  LIN Jia (Xiamen Univ. Technol., Fujian, CHN) ,  CHEN Ying (Xiamen Univ. Technol., Fujian, CHN) ,  GU Siyong (Xiamen Univ. Technol., Fujian, CHN)
資料名： Journal of Materials Engineering and Performance  (Journal of Materials Engineering and Performance)
巻： 26  号： 2  ページ： 584-589  発行年： 2017年02月 
JST資料番号： C0161B  ISSN： 1059-9495  CODEN： JMEPEG  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Moは高温強度に優れているが,耐高温酸化性に劣るため,耐酸化性に優れたMoSi₂コーティングが施される。スパークプラズマ焼結法によりMoSi₂-3.5%Si₃N₄-x%WSi₂(x=0,2,4,5,6)/Mo拡散対(vol%)を作製し,1200~1500°C,最長384hの加熱における中間Si化合物層のミクロ組織変化,成長速度,Siの拡散係数を調査した。MoSi₂-Si₃N₄-WSi₂/Mo拡散対において,初期段階ではMo₅Si₃,後期では(Mo,W)₅Si₃が中間層として形成された。中間層の形成は放物線則に従った。MoSi₂-3.5%Si₃N₄-5.0%WSi₂/Mo拡散対は,中間層成長の活性化エネルギーが316±23kJ/molであり,MoSi₂-3.5%Si₃N₄/Moに比べて大きく,Siの拡散係数が小さく,優れた耐酸化性を示した。

シソーラス用語： ケイ化モリブデン ,  *窒化ケイ素 ,  *ケイ化物 ,  タングステン化合物 ,  *モリブデン ,  中間相 ,  拡散対 ,  耐酸化性 ,  *高温酸化 ,  放電プラズマ焼結 ,  加熱温度 ,  金属間化合物 ,  成長速度 ,  拡散係数 ,  固体内拡散 ,  酸化膜 ,  活性化エネルギー ,  層厚
準シソーラス用語： ケイ化タングステン

分類 (1件)： 腐食  (WB03030B)

タイトルに関連する用語 (6件)： Si3N4 ,  Mo ,  拡散対 ,  中間相 ,  成長速度 ,  ミクロ組織