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J-GLOBAL ID：201702277883012431   整理番号：17A0502272

酸化ガリウム系ヘテロ接合界面におけるキャリア閉じ込めの観察

Observation of carrier confinement at a (Al,Ga)₂O₃/Ga₂O₃ heterojunction interface

著者 (8件)： 大島孝仁 (佐賀大) ,  加藤勇次 (佐賀大) ,  河野直士 (佐賀大) ,  大石敏之 (佐賀大) ,  嘉数誠 (佐賀大) ,  倉又朗人 ,  山腰茂伸 ,  藤田静雄 (京大)
資料名： 電気学会電子デバイス研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： EDD-17  号： 42-51  ページ： 1-6  発行年： 2017年03月09日 
JST資料番号： Z0910A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化ガリウム ,  *ヘテロ接合 ,  *接合部 ,  界面 ,  *閉込め ,  *変調ドーピング ,  *MBE成長 ,  *FET【トランジスタ】 ,  β相
準シソーラス用語： 接合界面 ,  キャリア閉込め ,  *HFET

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  トランジスタ  (NC03070N)

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸化ガリウム ,  ヘテロ接合界面 ,  キャリア ,  閉じ込め ,  観察