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J-GLOBAL ID：201702277890556055   整理番号：17A1689050

非対称性ビス-シリル化前駆体はシルセスキオキサン膜の自律集合(も)する

Non-symmetrical bis-silylated precursor can (also) self-direct the assembly of Silsesquioxane films

著者 (7件)： NI Lingli (Huaiyin Inst. of Technol., Huaian, CHN) ,  CHEMTOB Abraham (Univ. Haute-Alsace, Mulhouse, FRA) ,  CROUTXE-BARGHORN Celine (Univ. Haute-Alsace, Mulhouse, FRA) ,  RIGOLET Severinne (Univ. Haute-Alsace, Mulhouse, FRA) ,  DEROCHE Irena (Univ. Haute-Alsace, Mulhouse, FRA) ,  MICHELIN Laure (Univ. Haute-Alsace, Mulhouse, FRA) ,  VIDAL Loiec (Univ. Haute-Alsace, Mulhouse, FRA)
資料名： Journal of Sol-Gel Science and Technology  (Journal of Sol-Gel Science and Technology)
巻： 84  号： 1  ページ： 222-230  発行年： 2017年10月 
JST資料番号： W0812A  ISSN： 0928-0707  CODEN： JSGTEC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非対称性ビス-シリル化前駆体(1)の自律ゾル-ゲル光重合で,階層構造で均一な巨視的形態のハブリッド膜の形成を実現した。微視的に,ナノ層有機シリカから成る明確な単結晶を膜内に形成した。メソ構造の組織化は,実験のXRD,²⁹Si固体NMRデータと分子モデリングの組み合わせて推定した。最も可能性が高いメソスコピック組織化構造をSi-O-Si結合距離がアルキル鎖のvan der Waals半径未満の時に起こる立体再組織を考慮して決定した。ハイブリッド膜P1で,最も可能性が高い構造は,繰り返し-O-Si-CH₂部をベースにした単一「ハイブリッド」鎖と共に,若干相互侵入した高transC₈H₉鎖の二分子層スタックでできていた。P1は対称性類似体P2よりも高い秩序性を示した。さらに,そのメソ構造は,縮合が低いにもかかわらず単一シリル化類似体で形成したP3よりも無秩序性に熱的安定性を示した。

シソーラス用語： 非対称性 ,  シリル化 ,  前駆体 ,  *有機ケイ素化合物 ,  ゾル-ゲル法 ,  *光重合 ,  膜 ,  ハイブリッド方式 ,  単結晶 ,  構造 ,  *メソスコピック系 ,  X線回折 ,  ケイ素29NMR ,  モデリング ,  分子構造 ,  核間距離 ,  van der Waals半径 ,  規則度 ,  状態 ,  無秩序系 ,  階層構造
準シソーラス用語： XRD ,  シルセスキオキサン ,  ハイブリッド膜 ,  メソ構造 ,  結合距離 ,  秩序性 ,  分子モデリング ,  無秩序性

分類 (1件)： 光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A)

物質索引 (3件)： デシルトリメトキシシラン ,  1,2-ビス(トリメトキシシリル)デカン ,  1,10-ビス(トリメトキシシリル)デカン

タイトルに関連する用語 (7件)： 非対称性 ,  ビス ,  シリル化 ,  前駆体 ,  シルセスキオキサン ,  自律 ,  集合