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J-GLOBAL ID：201702277910661035   整理番号：17A0987183

ほう酸塩緩衝溶液中の純クロム上に生成した不動態膜の不動態化電位の影響【Powered by NICT】

The effect of passivated potential on the passive films formed on pure chromium in borate buffer solution

著者 (3件)： Jinlong Lv (Beijing Key Laboratory of Fine Ceramics, Institute of Nuclear and New Energy Technology, Tsinghua University, Zhongguancun Street, Haidian District, Beijing, 100084, China) ,  Jinlong Lv (State Key Laboratory of New Ceramic and Fine Processing, Tsinghua University, Beijing, 100084, China) ,  Tongxiang Liang (Beijing Key Laboratory of Fine Ceramics, Institute of Nuclear and New Energy Technology, Tsinghua University, Zhongguancun Street, Haidian District, Beijing, 100084, China)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 49  号： 6  ページ： 533-537  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ホウ酸塩緩衝溶液中のクロムの耐食性に及ぼす不動態化電位の影響を調べた。電気化学的結果は,クロム電極上の不動態膜の腐食抵抗は不動態化電位の増加と共に減少することを示した。Mott-Schottky分析は,より高い不動態化可能性のために,不動態膜中の多数のアクセプタ濃度はクロム電極の耐食性を劣化させることを示した。XPSからの結果は,より多くのクロム水酸化物は,より高い不動態化電位で形成されたが,一方,クロム酸化物が形成されたことを示した。不動態膜におけるアクセプタ濃度はほう酸塩緩衝液中でのクロム電極の腐食抵抗を減少させた。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *電位 ,  アクセプタ ,  *ホウ酸塩 ,  *クロム ,  水酸化物 ,  *不動態皮膜 ,  耐食性 ,  酸化クロム ,  *不動態化 ,  電気化学

著者キーワード (5件)： クロム ,  EIS ,  XRD ,  不動態皮膜 ,  Mott-Schottky解析

分類 (2件)： 腐食基礎理論,腐食試験  (WB03020Q) ,  電極過程  (CB07040U)

タイトルに関連する用語 (6件)： ほう酸塩 ,  緩衝溶液 ,  クロム ,  不動態膜 ,  不動態化 ,  電位