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J-GLOBAL ID：201702278021490330   整理番号：17A1121457

プログラム放出変換:量子ドットの崩壊への回復挙動を用いた負への積極的なパターン形成【Powered by NICT】

Programmed Emission Transformations: Negative-to-Positive Patterning Using the Decay-to-Recovery Behavior of Quantum Dots

著者 (8件)： Malak Sidney T. (School of Materials Science and Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA, 30332, USA) ,  Smith Marcus J. (School of Materials Science and Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA, 30332, USA) ,  Smith Marcus J. (Aerospace Systems Directorate, Air Force Research Laboratory, Wright-Patterson Air Force Base, OH, 45433, USA) ,  Yoon Young Jun (School of Materials Science and Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA, 30332, USA) ,  Lin Chun Hao (School of Materials Science and Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA, 30332, USA) ,  Jung Jaehan (School of Materials Science and Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA, 30332, USA) ,  Lin Zhiqun (School of Materials Science and Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA, 30332, USA) ,  Tsukruk Vladimir V. (School of Materials Science and Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA, 30332, USA)
資料名： Advanced Optical Materials  (Advanced Optical Materials)
巻： 5  号： 1  ページ： null  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2486A  ISSN： 2195-1071  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光に曝露した量子ドット(QD)発光(減衰(回復)の固有修飾から生じる正および負の光ルミネセンス光パターンコントラストを報告した。量子ドットの単一型を用いた光パターンタイプの多様性を作製する能力である光に暴露された二段階減衰への回復発展に起因していた。高コントラストphotopatternsスパンニングmm~2地域を簡単な一段階プロセスでは,数秒内で作製した,QD高分子膜(数時間から数秒へと)中の発光パターンを開発するために必要な時間の大幅な低減を表現できることを示した。さらに,制御された光照射は発光パターンコントラストのプログラム変換を可能にし,QD高分子光パターンの明/暗領域の反転。最後に,photopatterns高齢photopatternsの強度とコントラストを部分回復までの時間の期間,簡単な光照射を用いた「かん養」に貯蔵できることを示した。発光コントラストが要求される概説したパターン形成戦略は,偽造防止発光標識と光センサの容易な一段階並列作製,利得-損失パリティ-時間システムのための新しい経路を開くが,物理的パターン形成は,適切でないかもしれない。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 光ルミネセンス ,  量子収量 ,  光照射 ,  *量子ドット ,  光センサ ,  コントラスト ,  プログラム変換 ,  *パターン形成 ,  利得 ,  高分子 ,  発光 ,  パリティ ,  高分子膜
準シソーラス用語： 偽造防止 ,  バイオパンニング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 発光パターン ,  量子ドット崩壊 ,  量子ドット回収 ,  量子ドット ,  量子収率

分類 (5件)： 半導体のルミネセンス  (BM08092S) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子担体・触媒反応  (CG03030W) ,  バイオアッセイ  (EA03060N) ,  記憶装置  (JC04060F)

タイトルに関連する用語 (6件)： 放出 ,  量子ドット ,  崩壊 ,  回復 ,  挙動 ,  パターン形成