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J-GLOBAL ID：201702278154259349   整理番号：17A1804333

注目の製品と技術 クリーンルームの環境評価

著者 (2件)： 川元浩貴 (東芝ナノアナリシス) ,  和氣愛子 (東芝ナノアナリシス)
資料名： クリーンテクノロジー  (Clean Technology)
巻： 27  号： 12  ページ： 53-56  発行年： 2017年12月10日 
JST資料番号： L1138A  ISSN： 0917-1819  CODEN： KTEKER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・極わずかの汚染が製品の性能を悪化させる原因となる,半導体製造工程のクリーンルームに関する清浄度の管理技術を紹介。
・最初に,有機汚染,金属汚染およびイオン成分汚染に分けて,各汚染に分類される物質,その発生源および不良内容を例示。
・続いて,クリーンルームの環境・プロセスを評価するためのサンプリングポイントの概要,汚染物質と分析方法・感度,汚染源のサンプリング方法を説明。
・実際のサンプリングポイントでの評価結果として,ケミカルフィルターの性能確認例,作業エリアの金属汚染の分析例,露光装置周辺の有機物分析例を示して,データの意味を説明するとともに,運搬に関わる汚染としてFOURやFOSB内での汚染分析の方法を説明。

シソーラス用語： *クリーンルーム ,  *半導体プロセス ,  汚染物質 ,  環境汚染 ,  フィルタ ,  *汚染防止
準シソーラス用語： ケミカルフィルタ ,  *汚染管理 ,  金属汚染 ,  *半導体製造工程 ,  有機汚染物質 ,  露光装置

分類 (2件)： 空気浄化  (PC02060X) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 注目 ,  クリーンルーム ,  環境評価