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J-GLOBAL ID：201702278419559924   整理番号：17A1955331

グラフェンの原子スケール剥離の異方性に及ぼす実接触面積の影響

Effect of Real Contact Area on Anisotropy of Atomic-Scale Peeling of Graphene

著者 (5件)： OHMUKI Shuya (Univ. Electro-Commun, Tokyo, JPN) ,  ANDO Takakazu (Seikei Univ., Tokyo, JPN) ,  ITAMURA Noriaki (Seikei Univ., Tokyo, JPN) ,  MIURA Kouji (Aichi Univ. Educ., Aichi, JPN) ,  SASAKI Naruo (Univ. Electro-Commun, Tokyo, JPN)
資料名： Program/Abstracts of ISSS (CD-ROM)  (Program/Abstracts of ISSS (CD-ROM))
巻： 8th  ページ： ROMBUNNO.3PA-60  発行年： 2017年 
JST資料番号： L8395B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *剥離 ,  *グラフェン ,  面積 ,  ナノ構造 ,  接触 ,  計算機シミュレーション ,  分子間相互作用 ,  グラファイト ,  接着 ,  周面摩擦 ,  反応機構 ,  分子構造
準シソーラス用語： 原子スケール ,  接触面積 ,  化学的接着 ,  表面摩擦 ,  分子機構

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  計算機シミュレーション  (JE11000H)

タイトルに関連する用語 (4件)： グラフェン ,  原子スケール ,  異方性 ,  接触面積