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J-GLOBAL ID:201702278566755667   整理番号:17A0404099

透明導電性SiドープZnO/holeパターン形成したAg/SiをドープしたZnO多層膜の電気的および光学的特性【Powered by NICT】

Electrical and optical characteristics of transparent conducting Si-doped ZnO/hole-patterned Ag/Si-doped ZnO multilayer films
著者 (9件):
資料名:
巻: 43  号:ページ: 3693-3697  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0705A  ISSN: 0272-8842  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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円形パターンAg層は最初のSiドープZnO(SZO)/細孔をパターン化したAg/SZO多層膜を形成するために使用し,それらの光学的および電気的特性を評価した。従来の酸化物/金属/酸化物多層膜とは異なり,全ての試料は二つの特徴を示した(i)二重最大値と透過率の正弦波波長依存性,および(ii)可視透過率の起伏,赤外透過率では増加しなかった。SZO厚さを増加すると,透過率のピークが存在し赤方偏移,可視透過率窓が広がった。キャリア濃度は7.42×10~22から2.4×10~22cm~ 3に減少し,シート抵抗はSZO厚さの増加に伴い,7~10Ω/sqであった。Haackeの性能指数(FOM)はあるSZO基多層膜について計算した。40nm-厚SZO多層膜は15.9×10~ 3Ω~ 1の最高FOMを有していた。有限差分時間領域(FDTD)シミュレーションは測定された透過率を解釈した。FDTDシミュレーションに基づいて,波状透過率は表面プラズモン-ポラリトンに起因した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
分類
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酸化物薄膜  ,  セラミック・磁器の性質 

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