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J-GLOBAL ID:201702279487441903   整理番号:17A1722919

多結晶Siリッジ導波路のレーザ書込【Powered by NICT】

Laser writing of polycrystalline Si ridge waveguides
著者 (10件):
資料名:
巻: 2017  号: CLEO/Europe-EQEC  ページ:発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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多結晶シリコン(poly-Si)は,良好な光透過率,電子機能性と低製造コスト,商業的応用[1]のための魅力的な材料を結合するためのその可能性のためにシリコンフォトニクスの分野で大きな関心を集めている。添加では,非晶質Si(a Si)のレーザ処理により,非常に大きな結晶粒のポリSi[2]優れた光学的および電子的性能を有する材料を得ることが可能であることが示された。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
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光集積回路,集積光学 
タイトルに関連する用語 (3件):
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