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J-GLOBAL ID：201702279873868614   整理番号：17A1550637

高分子半導体ブレンドのスプレーコーティング蒸着技術【Powered by NICT】

Spray-coating deposition techniques for polymeric semiconductor blends

著者 (3件)： Bernardin Gavin A. (Department of Physics, Prifysgol Aberystwyth University, Aberystwyth SY23 3BZ, Wales, UK) ,  Davies Nathan A. (Department of Physics, Prifysgol Aberystwyth University, Aberystwyth SY23 3BZ, Wales, UK) ,  Finlayson Chris E. (Department of Physics, Prifysgol Aberystwyth University, Aberystwyth SY23 3BZ, Wales, UK)
資料名： Materials Science in Semiconductor Processing  (Materials Science in Semiconductor Processing)
巻： 71  ページ： 174-180  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1055A  ISSN： 1369-8001  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大面積に適しているとして,ポリフルオレン(F8TBT),ポリチオフェン(P3HT)とフラーレン(PCBM)のブレンドに基づく高分子半導体ブレンドのスプレー析出法のための普遍的方法を開発した。光ルミネセンス消光,原子間力顕微鏡および光学顕微鏡を研究する,多面的な特性化法は,層の厚さ,均一性,およびメソスケールモルフォロジーに関して良好な結果を示した。キー工学公差を念頭に置いて,熱(溶融)と溶媒蒸気アニーリングは後処理法として調べ,クレータ状層とブレンド光物理特性の平面性を改善した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *蒸着 ,  平坦性 ,  原子間力顕微鏡 ,  焼なまし ,  光学顕微鏡 ,  *高分子半導体 ,  後処理 ,  光ルミネセンス ,  キャラクタリゼーション ,  *スプレー塗装 ,  クレータ ,  消光 ,  公差
準シソーラス用語： 大面積 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： スプレーコーティング ,  ポリマブレンド ,  アニーリング法 ,  薄いfilms ,  共役重合体

分類 (4件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  トランジスタ  (NC03070N) ,  ダイオード  (NC03050R)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高分子半導体 ,  ブレンド ,  スプレーコーティング ,  蒸着