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J-GLOBAL ID：201702279890121825   整理番号：17A0987259

新しいエピタキシャル薄膜モデルと数値近似【Powered by NICT】

New epitaxial thin-film models and numerical approximation

著者 (5件)： Chen Wenbin (School of Mathematical Sciences, Fudan University, Shanghai, 200433, China) ,  Chen Zhenhua (School of Mathematical Sciences, Fudan University, Shanghai, 200433, China) ,  Cheng Jin (School of Mathematical Sciences, Fudan University, Shanghai, 200433, China) ,  Cheng Jin (School of Mathematics, Shanghai University of Finance and Economy, Shanghai, 200433, China) ,  Wang Yanqiu (School of Mathematical Sciences, Nanjing Normal University, Nanjing, 210023, China)
資料名： Mathematical Methods in the Applied Sciences  (Mathematical Methods in the Applied Sciences)
巻： 40  号： 11  ページ： 3855-3881  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2677A  ISSN： 0170-4214  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ehrlich-Schwoebel電流の三種類の異なる型のエピタキシャル薄膜成長のための新しい連続現象論的モデルに関するものである。これらの型の二は初めてPolitiとVillain1996によって提案された,Evans,Thielおよび2006Barteltにより研究した。もう一つは全く新しい。新しいモデルのエネルギー構造と特性を研究した。LiとLiu2003で用いた手法に続いて,新しいモデルのための適切性,規則性,および時間安定性の厳密な解析を提示した。も成長プロセスにおける表面粗さの大域的および局所的挙動の両方を研究した。凸-凹時間分割方式を用いることにより,線形陰的部分,非線形陰的部品を必要とする従来のモデルよりも実装がはるかに容易で無条件に安定な半陰的数値離散化を自然にできた。モデルにおけるこの基本的違いにもかかわらず,数値実験を行い,新モデルの非線形形態学的不安定性は,新しいモデルは,薄膜成長過程において重要な形態学的状態を正確に把握できることを示した以前に報告された他のモデルの結果と良く一致することを示した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 電流 ,  不安定性 ,  規則度 ,  *エピタクシー ,  線形性 ,  薄膜成長 ,  モルフォロジー ,  凸形 ,  *薄膜 ,  凹形 ,  *近似法 ,  リチウム
準シソーラス用語： 数値実験 ,  離散化 ,  現象論的モデル , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： エピタキシャル薄膜の成長 ,  Ehrlich-Schwoebel効果 ,  凸凹分割法 ,  半陰的時間離散化

分類 (5件)： 地下水流  (RC10060Q) ,  オートマトン理論  (JB04000O) ,  ロボットの運動・制御  (IC04012J) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I) ,  システム最適化手法  (IA02050Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： エピタキシャル ,  膜モデル ,  数値 ,  近似