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J-GLOBAL ID：201702279919172000   整理番号：17A1278726

高静水圧での疎水性ギャップ【Powered by NICT】

The Hydrophobic Gap at High Hydrostatic Pressures

著者 (7件)： Wirkert Florian J. (Fakultaet Physik/DELTA, TU Dortmund, 44221, Dortmund, Germany) ,  Holzl Christoph (Institut fuer Physikalische und Theoretische Chemie, Universitaet Regensburg, Germany) ,  Paulus Michael (Fakultaet Physik/DELTA, TU Dortmund, 44221, Dortmund, Germany) ,  Salmen Paul (Fakultaet Physik/DELTA, TU Dortmund, 44221, Dortmund, Germany) ,  Tolan Metin (Fakultaet Physik/DELTA, TU Dortmund, 44221, Dortmund, Germany) ,  Horinek Dominik (Institut fuer Physikalische und Theoretische Chemie, Universitaet Regensburg, Germany) ,  Nase Julia (Fakultaet Physik/DELTA, TU Dortmund, 44221, Dortmund, Germany)
資料名： Angewandte Chemie. International Edition  (Angewandte Chemie. International Edition)
巻： 56  号： 42  ページ： 12958-12961  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0127B  ISSN： 1433-7851  CODEN： ACIEAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 種々の静水圧下でのX線反射率実験と分子動力学シミュレーションによるいわゆる疎水性ギャップ,水と固体疎水性表面間の界面で減少した電子密度の分子的に薄い領域に新しい洞察を得ている。圧力変動は疎水性ギャップは5kbarの圧力まで持続することを示した。界面領域における電子空乏は,圧力の増加と共に減少し,界面領域はバルク水よりも強く圧縮されることを示した。減少は2kbarまでの最も重要である;を超えて,空乏の圧力応答は顕著ではなかった。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： X線反射 ,  計算機シミュレーション ,  *疎水性 ,  電子密度 ,  *圧力効果 ,  *固液界面 ,  水 ,  静水圧
準シソーラス用語： 分子動力学シミュレーション

著者キーワード (5件)： 疎水性ギャップ ,  静水圧 ,  連けいさせるか ,  分子動力学シミュレーション ,  X線反射率

分類 (1件)： 固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (3件)： 高静水圧 ,  疎水性 ,  ギャップ