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J-GLOBAL ID：201702280662209277   整理番号：17A1104567

散乱体を通過した光により生成された焦点近傍の縦強度分布

Longitudinal intensity distribution near the focus produced by light through scattering media

著者 (4件)： JI Xuan-Xuan (Huaqiao Univ., Fujian, CHN) ,  WAN Li-Peng (Huaqiao Univ., Fujian, CHN) ,  CHEN Zi-Yang (Huaqiao Univ., Fujian, CHN) ,  PU Ji-Xiong (Huaqiao Univ., Fujian, CHN)
資料名： Optical Review (Web)  (Optical Review (Web))
巻： 24  号： 4  ページ： 529-532 (WEB ONLY)  発行年： 2017年08月 
JST資料番号： U0709A  ISSN： 1349-9432  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 微粒子の光操作法やレーザ加工法などの分野では,コヒーレント光の放射強度の空間分布を調整することが重要となる。コヒーレント光が散乱体を通過すると,スペックルパターンが形成される。しかし,コヒーレント光の入射位相を適切に最適化した後,コヒーレント光が散乱体を通過すると,明るい焦点が得られる。しかし,この現象において,焦点付近の強度分布が正確に解析されていなかった。焦点近傍の縦強度分布を解析するために,解析モデルについて検討した。解析モデルでは,多重散乱を考慮して,散乱体を通過するコヒーレント光の強度分布を幾何光学法で解析した。焦点近傍の縦方向強度分布に影響を与えるいくつかの要因を詳細に調べた。入射光を最適化することで,所望の縦方向の集束強度分布が得られることが分かった。この結果は,粒子操作やレーザ加工などに応用できる。

シソーラス用語： *放射強度 ,  空間分布 ,  焦点 ,  *縦モード ,  *散乱体 ,  スペックル ,  コヒーレント光 ,  レーザ加工 ,  縦方向 ,  光散乱 ,  幾何光学法 ,  解析モデル
準シソーラス用語： スペックルパターン ,  強度分布

分類 (1件)： 光の散乱,回折,干渉  (BD03030M)

引用文献 (15件)：

• Ishimaru, A.: Limitation on image resolution imposed by a random medium. Appl. Opt. 17, 348 (1978)
• Sebbah, P.: Waves Imaging Through Complex Media. Kluwer Academic Publishers, Dordrecht (2001)
• Vellekoop, I.M., Mosk, A.P.: Focusing coherent light through opaque strongly scattering media. Opt. Lett. 32, 2309 (2007)
• Vellekoop, I.M., Lagendijk, A., Mosk, A.P.: Exploiting disorder for perfect focusing. Nat. Photon. 4, 320 (2010)
• Cui, M.: Parallel wavefront optimization method for focusing light through random scattering media. Opt. Lett. 36, 870 (2011)

タイトルに関連する用語 (4件)： 散乱体 ,  焦点近傍 ,  縦 ,  強度分布