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J-GLOBAL ID：201702280757275221   整理番号：17A1141003

極限検出およびフォノン工学用途向けのヘリウムイオンビームを使った単一ナノメータグラフェンパターニング

Single-nanometer graphene patterning with helium ion beam for extreme sensing and phonon engineering applications

著者 (5件)： MIZUTA Hiroshi (JAIST) ,  SCHMIDT Marek E. (JAIST) ,  HAQUE Mayeesha (JAIST) ,  OGAWA Shinichi (AIST) ,  MURUGANATHAN Manoharan (JAIST)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.7p-C13-4  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *グラフェン ,  *ナノ構造 ,  *パターン形成 ,  *イオンビーム ,  リボン結晶 ,  イオンエッチング ,  量子閉込め ,  *バンドギャップ ,  *MEMS ,  *ナノメータ加工 ,  結晶
準シソーラス用語： ナノグラフェン ,  *ヘリウムビーム ,  ナノグラフェンリボン ,  フォノニック結晶 ,  *フォノニックバンドギャップ

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (6件)： 極限 ,  フォノン ,  工学 ,  用途 ,  ヘリウム ,  イオンビーム