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J-GLOBAL ID：201702280881966839   整理番号：17A0232353

立方晶窒化ホウ素の表面科学と薄膜成長

著者 (5件)： 高見拓哉 (北大) ,  田村貴大 (北大) ,  柳瀬隆 (北大) ,  長浜太郎 (北大) ,  島田敏宏 (北大)
資料名： セラミックス基礎科学討論会講演要旨集  (Preprints of the Symposium on Basic Science of Ceramics)
巻： 55th  ページ： 146  発行年： 2017年01月12日 
JST資料番号： L1357A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *セラミック ,  *窒化ホウ素 ,  *セラミック膜 ,  *プラズマCVD ,  結晶成長 ,  ダイヤモンド ,  *CBN【セラミック】 ,  表面科学 ,  *マイクロ波プラズマCVD ,  鉱石 ,  宝石
準シソーラス用語： *マイクロ波プラズマ化学蒸着

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (3件)： 立方晶窒化ホウ素 ,  表面科学 ,  薄膜成長