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J-GLOBAL ID：201702280935457492   整理番号：17A0641788

単純なモデルに依存しないナノ粒子吸着による閉じ込め高分子薄膜の密度変動の調査

Probing the Density Variation of Confined Polymer Thin Films via Simple Model-Independent Nanoparticle Adsorption

著者 (13件)： UNNI A. Beena (Univ. Bretagne Sud, Lorient, FRA) ,  UNNI A. Beena (Mahatma Gandhi Univ., Kerala, IND) ,  VIGNAUD G. (Univ. Bretagne Sud, Lorient, FRA) ,  CHAPEL J. P. (Centre de Rech. Paul Pascal (CRPP), CNRS, Pessac, FRA) ,  CHAPEL J. P. (Univ. de Bordeaux, Pessac, FRA) ,  GIERMANSKA J. (Centre de Rech. Paul Pascal (CRPP), CNRS, Pessac, FRA) ,  GIERMANSKA J. (Univ. de Bordeaux, Pessac, FRA) ,  BAL J. K. (Univ. Calcutta, Kolkata, IND) ,  DELORME N. (Univ. du Maine, Le Mans, FRA) ,  BEUVIER T. (Univ. du Maine, Le Mans, FRA) ,  THOMAS S. (Mahatma Gandhi Univ., Kerala, IND) ,  GROHENS Y. (Univ. Bretagne Sud, Lorient, FRA) ,  GIBAUD A. (Univ. du Maine, Le Mans, FRA)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 50  号： 3  ページ： 1027-1036  発行年： 2017年02月14日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高分子薄膜の密度/屈折率変化を検出するための,直接かつモデルに依存しない方法として,酸化セリウムナノ粒子(NP)の表面への吸着を提案する。吸着されたNPの量は高分子膜の屈折率に比例した。したがって,NP表面被覆率の増加/減少は,膜の屈折率および密度の増加/減少を直接示した。二種類の高分子について提案された新規アプローチを試したところ,酸化物を含まないSi基板上に堆積されたポリスチレン薄膜の密度は,膜厚の減少とともに増加することが分かった。これとは対照的に,自然酸化シリコンを有するウエハ上に堆積されたポリメタクリル酸メチル膜は,膜厚が減少するとその密度が減少した。

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,  *ナノ粒子 ,  *吸着 ,  *屈折率 ,  *ポリスチレン ,  酸化ケイ素 ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  *酸化セリウム ,  *密度 ,  ウエハ【IC】
準シソーラス用語： Si基板 ,  酸化シリコン

分類 (1件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (7件)： モデル ,  ナノ粒子 ,  吸着 ,  閉じ込め ,  高分子薄膜 ,  密度変動 ,  調査