文献
J-GLOBAL ID:201702281111454007   整理番号:17A0976044

SO3Hシリカゲルを用いたシリルエーテルの脱保護基:糖,ヌクレオシドおよびアルカロイド誘導体への応用【Powered by NICT】

Deprotection of silyl ethers by using SO3H silica gel: Application to sugar, nucleoside, and alkaloid derivatives
著者 (16件):
資料名:
巻: 73  号: 36  ページ: 5425-5429  発行年: 2017年09月07日 
JST資料番号: E0234A  ISSN: 0040-4020  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
アルキルスルホン酸基により修飾した表面をもつ,SO_3Hシリカゲルを用いたシリル化糖,ヌクレオシド,およびアルカロイド誘導体への脱シリル化法を適用した。SO_3Hシリカゲルによる処理は良好~優れた収率で脱シリル化生成物を与えた。糖及びヌクレオシド誘導体の反応では,シリル残基は粗生成物では検出されなかったが,アルカロイドの反応の粗生成物は少量のシリル残基を含んでいた。糖及びヌクレオシド誘導体は不安定グリコシルとCN結合であったにもかかわらず,これらの結合は反応条件を耐えた。これらの結果は,SO_3Hシリカゲルを用いた脱シリル化手順をシリル基で保護された化合物の種類の種々の脱保護に適用可能であることを示唆した。グラムスケール実験では,脱シリル化法は,粗生成物のシリル残基の観察無しで進行することに成功した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
有機けい素化合物  ,  付加反応,脱離反応  ,  不均一系触媒反応 
物質索引 (12件):
物質索引
文献のテーマを表す化学物質のキーワードです

前のページに戻る