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J-GLOBAL ID：201702281169309628   整理番号：17A1185354

支持液膜を用いたりん酸トリブチルによる2 ナフトール不純物の選択的抽出による3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸の精製のためのプロセス【Powered by NICT】

Process for purification of 3-hydroxy-2-naphthoic acid by selective extraction of 2-naphthol impurity with tributyl phosphate using supported liquid membrane

著者 (2件)： Bapat Deepak U. (Department of Chemical Engineering, Institute of Chemical Technology, Matunga, Mumbai 400019, India) ,  Patwardhan Ashwin W. (Department of Chemical Engineering, Institute of Chemical Technology, Matunga, Mumbai 400019, India)
資料名： Chemical Engineering Research and Design  (Chemical Engineering Research and Design)
巻： 123  ページ： 317-332  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0282A  ISSN： 0263-8762  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸(BON酸)は染料と顔料工業における重要な中間体である。Kolbe-Schmitt反応からの通常の方法で作製したBON酸は通常2 5%2 ナフトール不純物を含んでいた。研究の目的は,リン酸トリブチル(TBP)を用いたBON酸から2 ナフトールを選択的に除去した。水中2 ナフトールとBON酸の溶解度は,非ランダム二液(NRTL)方程式を用いてモデル化した。中空繊維担持液膜(HFSLM)を精製に用いた。数学モデルは結果を説明するために開発した。2 ナフトールの分布係数はBON酸よりも有意に高かった。分配係数はpHの増加とともに減少した。HFSLM実験において7 9のpH範囲で得られた最適分離。HFSLMモジュールの安定性を調べた。HFSLM運転中の200を超える分離係数が得られた。HFSLM研究は,混合物から2 ナフトールを選択的に除去,有意に高い純度BON酸をもたらすことが可能であることを示した。実験データは,開発した数学モデルを用いて相関が適当であった。実験に基づいて,改変精製スキームを提案した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： モデリング ,  分離係数 ,  *液膜 ,  染料 ,  純度 ,  リン酸 ,  数学モデル ,  顔料 ,  溶解度 ,  *不純物 ,  無機酸エステル
準シソーラス用語： 分布係数 ,  Kolbe-Schmitt反応 ,  *含浸型液膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 2 ナフトール ,  3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸 ,  トリブチルりん酸塩 ,  担持液体膜 ,  数学モデル

分類 (3件)： 晶析  (XD02070T) ,  反応装置  (XE01030X) ,  吸着,イオン交換  (XD02060I)

物質索引 (2件)： 3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸 ,  りん酸トリブチル

タイトルに関連する用語 (8件)： 支持液膜 ,  りん酸トリブチル ,  ナフトール ,  不純物 ,  選択的抽出 ,  酸 ,  精製 ,  プロセス