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J-GLOBAL ID：201702281813910033   整理番号：17A1342653

パルスレーザー蒸着(PLD)法を用いたMgO基板上L1₀-FeNiの作製

著者 (12件)： 齊藤真博 (東京理大) ,  伊藤久晃 (東京理大) ,  落合順也 (東京理大) ,  森あゆみ (東京理大) ,  鈴木雄太 (東京理大) ,  富田正樹 (東京理大) ,  宮町俊生 (東大 物性研) ,  小森文夫 (東大 物性研) ,  小金澤智之 (JASRI) ,  水口将輝 (東北大 金属材料研) ,  高梨弘毅 (東北大 金属材料研) ,  小嗣真人 (東京理大)
資料名： 日本磁気学会学術講演概要集  (Abstracts. Annual Conference on Magnetics in Japan)
巻： 41st  ページ： 134  発行年： 2017年09月05日 
JST資料番号： Y0056A  ISSN： 1882-2959  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *パルスレーザ蒸着 ,  酸化マグネシウム ,  *磁気異方性 ,  薄膜成長 ,  規則度 ,  積層構造 ,  SQUID ,  磁力計 ,  *パーマロイ ,  SQUID磁力計
準シソーラス用語： MgO ,  鉄ニッケル磁性合金

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  磁性材料  (NA04040H)

タイトルに関連する用語 (5件)： パルスレーザー蒸着 ,  PLD ,  法 ,  MgO ,  作製