HS-LEISによるMoS<sub>2</sub>の最初の数層を厳密調査  酸化における微細構造の影響

CURRY John F.; LUFTMAN Henry S.; SIDEBOTTOM Mark A.; STANDWITZ Nicholas C.; ARGIBAY Nicolas; KRICK Brandon A.

文献

J-GLOBAL ID：201702281909659269 整理番号：17A0596860

HS-LEISによるMoS₂の最初の数層を厳密調査酸化における微細構造の影響

Probing the First Few Layers of MoS₂ with HS-LIES: Effect of Microstructure on Oxidation

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資料名：
巻： 73 号： 5 ページ： 42-44,46,48 発行年： 2017年05月
JST資料番号： C0445A ISSN： 1545-858X 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

MoS₂やMoS₂被覆は,水,酸素分子或いは原子酸素を含む環境では,酸化により摩擦係数が増加する。低高度地球軌道環境の人工衛星においても原子酸素による酸化が問題となる。高秩序結晶MoS₂膜と比較して非晶質ナノ結晶MoS₂膜との第一層からー4nm層までのMoS₂の酸化と酸素拡散を調べた。高感度-低速イオン散乱(HS-LEIS)スペクトロスコピーを使用し,エネルギースペクトルを求めた。4nm深さまでの硫黄とモリブデン比率分布を及び酸素とモリブデン比率分布を報告した。又,摩擦係数も調べた。その結果,非晶質ナノ結晶MoS₂膜の方が酸素拡散に対して感受性が高いことが示された。また,HS-LEISの有効性も示された。

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潤滑一般 , 硫黄とその化合物 , 電子ビーム・イオンビームの応用

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HS-LEISによるMoS2の最初の数層を厳密調査 酸化における微細構造の影響

HS-LEISによるMoS₂の最初の数層を厳密調査酸化における微細構造の影響