NdとTiをコドープしたBiFeO<sub>3</sub>膜における安定な自己分極

LV P. P.; JIANG X. M.; YAN J.; YAN J.; HU G. D.

文献

J-GLOBAL ID：201702282603399298 整理番号：17A0504565

NdとTiをコドープしたBiFeO₃膜における安定な自己分極

Stable self-polarization in Nd and Ti codoped BiFeO₃ films

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資料名：
巻： 28 号： 2 ページ： 2233-2240 発行年： 2017年01月
JST資料番号： W0003A ISSN： 0957-4522 CODEN： JMTSAS 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

化学溶液デポジション法で制作した膜は成長モードが不連続である。層厚は膜が厚くなる過程で自己分極を発生し維持するために重要である。層と膜厚が異なるNd(3%)とTi(2%)をコドープしたBiFeO₃(BNFTO)膜を有機金属分解法でLaNiO₃/Si基板にデポジットして比較した。非対称P-Eヒステリシスループは,いずれの膜も層や膜厚に関係なく自己分極であることを示している。更に重要なことは,いずれの膜のP-Eヒステリシスループも高電界測定後でも非対称形状に回復し,自己分極が非常に安定なことを示している。この結果は(100)への強い優先配向と緊密な欠陥複合体によるものである。マイクロスケールへの圧電応答でも両方の膜での自己分極形成が確認される。厚さ150nmの膜と1.3μmの膜のd₃₃はそれぞれ135と165pm/Vであるので,圧電デバイス用としては1.3μm厚の膜が良い。

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固体デバイス材料 , 酸化物薄膜

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NdとTiをコドープしたBiFeO3膜における安定な自己分極

NdとTiをコドープしたBiFeO₃膜における安定な自己分極