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J-GLOBAL ID:201702282635417538   整理番号:17A0101379

亜鉛ドープ酸化亜鉛半導体薄膜の調製とその性能研究【JST・京大機械翻訳】

Preparation and property of titanium-gallium co-doped zinc oxide semiconductor thin film
著者 (5件):
資料名:
巻: 44  号:ページ: 62-65  発行年: 2016年 
JST資料番号: C2923A  ISSN: 1006-3536  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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高周波マグネトロンスパッタリング技術を用いて,ガラス基板上にZNO/ZNO薄膜を調製し,XRD,XPS,4プローブおよび透過スペクトルによって特性評価し,薄膜の微細構造,結晶成長および光電特性に及ぼす基板温度の影響を研究した。結果は以下を示す。TGZO薄膜は高C軸優先配向成長特性を有し,その微細構造と光電特性は基板温度と密接に関連した。基板温度が340°Cである場合には。TGZO薄膜は,最大のテクスチャ係数(2.963),最大の結晶粒度(85.7NM),最小の微小歪(0.231),最も低い抵抗(1.87×10(-3)ΩCM),最も高い可視光透過率(84.8)と最大の品質因子(451.2Ω(-1)CM(-1))を示した。その結晶品質と光電特性は最良であった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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酸化物薄膜 

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