文献

J-GLOBAL ID：201702282856579455   整理番号：17A0576632

多波長逐次露光型移動マスクリソグラフィによるマイクロニードルの形成

著者 (2件)： 加藤暢宏 (近畿大 生物理工) ,  森駿太 (近畿大 大学院)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2017  号： 春季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.E07  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 透明基板裏面からのネガ型厚膜フォトレジストへの移動マスク露光によってマイクロニードルの形成が可能である。従来は単一波長(λ=365nm)の紫外線のみを使用しており,形成できる形状に制約があった。本研究ではフォトレジストの吸光特性の測定結果に基づいて,通常は露光に使用されない複数波長の紫外線を使用することでニードル部分と土台部分の形状の自由度を飛躍的に向上させた。(著者抄録)

シソーラス用語： *針 ,  露光 ,  波長依存性 ,  *フォトマスク ,  *フォトリソグラフィー ,  紫外線 ,  厚膜 ,  パターン形成 ,  吸収係数 ,  光吸収 ,  *マイクロマシニング
準シソーラス用語： ネガ型レジスト ,  *マイクロニードル ,  多波長

分類 (2件)： 特殊加工  (QC04000Y) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (1件)：

• T. Kai, S. Mori, and N. Kato, “Development of a Rapid Prototyping System for Microneedles Using Moving-mask Lithography with Backside Exposure,” ABE, vol. 5, no. 0, pp. 63-67, 2016.

タイトルに関連する用語 (6件)： 多波長 ,  逐次 ,  露光 ,  マスク ,  リソグラフィ ,  マイクロニードル