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J-GLOBAL ID：201702282871121455   整理番号：17A0635350

ゾル-ゲル法により調製したTiO₂結晶薄膜の種々のプラスチック基板への移行性および付着

Transferability and Adhesion of Sol-Gel-Derived Crystalline TiO₂ Thin Films to Different Types of Plastic Substrates

著者 (4件)： AMANO Natsumi (Kansai Univ., Suita, JPN) ,  TAKAHASHI Mitsuru (Kansai Univ., Suita, JPN) ,  UCHIYAMA Hiroaki (Kansai Univ., Suita, JPN) ,  KOZUKA Hiromitsu (Kansai Univ., Suita, JPN)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 33  号： 4  ページ： 947-953  発行年： 2017年01月31日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ケイ素基板表面にポリイミド-ポリビニルピロリドン混合膜を形成し,チタンテトライソプロポキシドを原料とするゾル-ゲル法/焼成によりアナターゼ膜(60nm)/Si基板を調製した。プラスチック基板を圧着,近赤外線照射加熱によりアナターゼ膜をプラスチック基板上に移行させた。X線回折,走査電子顕微鏡によりキャラクタリゼーションを行った。プラスチック種がポリカーボネート,ポリメタクリル酸メチル,ポリエチレンテレフタレートの場合,移行したアナターゼ膜は破損しないのに対し,ポリエチレン,ポリプロピレン,ポリエーテルエーテルケトン,ポリビニリデンクロリドでは破損した。プラスチック中のC=OおよびC-O基がアナターゼ膜との接着に働くと結論した。これらの基を含まないプラスチックの表面を紫外線/オゾン処理すると接着性が改善されることを確めた。

シソーラス用語： ウエハ【IC】 ,  ポリビニルピロリドン ,  ポリイミド ,  ポリマブレンド ,  高分子膜 ,  ゾル-ゲル法 ,  *酸化チタン ,  アナターゼ ,  *セラミック膜 ,  *接合 ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  ポリカーボネート ,  ポリメタクリル酸メチル ,  ポリエチレンテレフタレート繊維 ,  カルボニル基 ,  オゾン処理 ,  紫外線照射
準シソーラス用語： ケイ素基板 ,  *プラスチック基板 ,  *界面相互作用 ,  *固固界面 ,  *酸化チタン薄膜 ,  熱圧着

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固-固界面  (CB12060M) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

物質索引 (1件)： チタンテトライソプロポキシド

タイトルに関連する用語 (7件)： ゾル-ゲル法 ,  調製 ,  TiO2 ,  結晶 ,  薄膜 ,  プラスチック基板 ,  移行