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J-GLOBAL ID：201702282873931933   整理番号：17A1627306

Be_2C膜の微細構造と特性に及ぼす基板温度の影響:ICFアブレータとしてのその応用を進歩させるための目的【Powered by NICT】

Effect of substrate temperature on the microstructure and properties of Be₂C films: Aim to advance its applications as ICF ablator

著者 (11件)： He Yudan (Research Center of Laser Fusion, Chinese Academy of Engineering Physics, Mianyang 621900, China) ,  Zhang Jiqiang (Research Center of Laser Fusion, Chinese Academy of Engineering Physics, Mianyang 621900, China) ,  Luo Bingchi (Research Center of Laser Fusion, Chinese Academy of Engineering Physics, Mianyang 621900, China) ,  Li Kai (Research Center of Laser Fusion, Chinese Academy of Engineering Physics, Mianyang 621900, China) ,  Chen Long (Research Center of Laser Fusion, Chinese Academy of Engineering Physics, Mianyang 621900, China) ,  Li Wenqi (Research Center of Laser Fusion, Chinese Academy of Engineering Physics, Mianyang 621900, China) ,  Luo Jiangshan (Research Center of Laser Fusion, Chinese Academy of Engineering Physics, Mianyang 621900, China) ,  Luo Jiangshan (Science and Technology on Plasma Physics Laboratory, Mianyang 621900, China) ,  Wu Weidong (Research Center of Laser Fusion, Chinese Academy of Engineering Physics, Mianyang 621900, China) ,  Wu Weidong (Science and Technology on Plasma Physics Laboratory, Mianyang 621900, China) ,  Wu Weidong (IFSA Collaborative Innovation Center, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, China)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 728  ページ： 71-77  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CH_4Arプラズマの混合物中のベリリウムのDC反応性マグネトロンスパッタリングにより石英基板上に堆積したベリリウム炭化膜。組成,微細構造および光学的性質に及ぼす基板温度の影響は,適切な分析技術によって特性化した。実験結果は,組成は基板温度に依存せず,全ての膜は主にBe_2Cから構成されていることを明らかにした。滑らかな表面(Ra<4 nm)Untextured多結晶Be_2Cコーティングは,低基板温度(85 175 °C)で得られた,温度増加に伴って粗い表面をもつ多孔質柱状結晶構造へと進化した。これらの膜は,微細結晶粒(<26 nm)と高い密度を示した。Be_2C膜の高速堆積(>220 nm/h)は,本研究では,反応性マグネトロンスパッタリングによる電流最高の堆積速度を示した。光学的測定は,可視領域で~40%とBe_2C膜の近赤外領域における~84%の平均透過率を示した。光学バンドギャップ,Tauc法により評価し,基板温度にもかかわらず約1.9eVであった。高品質Be_2C膜を調製に向けた重要な段階を表し,ICFアブレータとしてBe_2Cの適用に有益であった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 光学的性質 ,  多孔性 ,  透過率 ,  微結晶 ,  *基板温度 ,  *ベリリウム ,  光学的測定 ,  柱状晶 ,  光学ギャップ ,  *微細構造 ,  多結晶 ,  被覆
準シソーラス用語： 石英基板 ,  反応性マグネトロンスパッタリング ,  *アブレータ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： ベリリウム炭化膜 ,  ICFアブレータ ,  反応性スパッタリング ,  基板温度

分類 (3件)： 機械的性質  (WB02030U) ,  核融合装置  (BJ02083Z) ,  圧粉,焼結  (WC02030X)

タイトルに関連する用語 (5件)： 微細構造 ,  基板温度 ,  ICF ,  アブレータ ,  応用