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J-GLOBAL ID：201702282947550099   整理番号：17A0487172

電気的析出におけるデンドライトの発生機構とパルスめっきによる制御

著者 (1件)： 江川恭平 (京大 大学院情報学研究科)
資料名： 形の科学会誌  (Jornal of the Society for Science on Form)
巻： 31  号： 3  ページ： 127-143  発行年： 2017年03月 
JST資料番号： L1361A  ISSN： 0915-6089  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本稿では,電気めっきにおいて生じる金属析出,即ち,電気的析出を取り上げ,電気化学工学の重要な課題であるデンドライト形成の制御の問題を取り上げ,デンドライトの発生機構とパルスめっきのよる制御方法について議論を行った。ここでは動的モンテカルロ法を用いて原子スケールのコンピュータによる計算を行った。シミュレーションモデルおよびパラメータについて議論を行い,初通過動的モンテカルロ法の概要およびアルゴリズムを示した。その中で,一次元-多粒子システムの例を用いた。モデリングとパラメータについて解説を行い,モデルの結晶化の過程について論じた。このシミュレーション実験の結果を示し,シミュレーションの初期とデンドライト発生の例,150万個結晶化した時の表面,縞分布,パラメータ依存性,イオン濃度勾配などの例を示した。最後に,初期の縞分布とデンドライト発生の相関,デンドライトが発生し易い拡散比,電着率,イオン供給間隔の値,に設定したパルスの利用によるデンドライトの制御の結果を示した。

シソーラス用語： 樹枝状結晶 ,  *析出 ,  *溶融めっき ,  電気めっき ,  *モンテカルロ法 ,  *シミュレーション ,  酔歩 ,  計算機アルゴリズム ,  シミュレーションモデル ,  結晶 ,  パラメタリゼーション ,  評価試験 ,  濃度勾配 ,  相関
準シソーラス用語： デンドライト ,  パルス制御 ,  *モンテカルロシミュレーション ,  ランダムウォーク ,  *金属めっき ,  *電気的析出

分類 (4件)： 組織的硬化現象  (WB01020C) ,  溶融めっき  (WC08026A) ,  システム・制御理論一般  (IA02010H) ,  計算機シミュレーション  (JE11000H)

引用文献 (4件)：

• 小久見善八.“最新二次電池材料の技術”, CMC出版(1999).
• Tomas Oppelstrup, Vasily V. Bulatov, Aleksandar Donev, Malvin H. Kalos, Gearge H. Gilmer, and Babak Sadigh. “First-passage kinetic Monte Carlo Method”,, 80(6):066701-, Dec(2009).
• A. Bezzola, B. B. Bales, R. C. Alkire, L. R. Petzold. “An exact and efficient first passage time algorithm for reaction-diffusion processes on a 2D-lattice” ,, 256,183-197(2014).
• 中嶋梓.“First-passage Kinetic Monte Carlo Simulation of Dendrite Formation in Electrodeposition”, 京都大学 修士課程報告書(2015).

タイトルに関連する用語 (3件)： 析出 ,  デンドライト ,  パルスめっき