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J-GLOBAL ID：201702283130484152   整理番号：17A1984622

低エネルギー水素アニオン励起石英ガラス発光【JST・京大機械翻訳】

Negative Hydrogen Ions Induced Luminescence from Silica Glass

著者 (6件)： Chu Yingjie (北京師范大学核科学与技術学院,北京,100875) ,  Chou Menglin (北京師范大学核科学与技術学院,北京,100875) ,  Xu Mi (北京師范大学核科学与技術学院,北京,100875) ,  Zheng Li (北京師范大学核科学与技術学院,北京,100875) ,  Wang Guangfu (北京師范大学核科学与技術学院,北京100875;北京市輻射中心,北京100875) ,  Yin Peng (北京師范大学核科学与技術学院,北京,100875)
資料名： Zhongguo Biaomian Gongcheng  (Zhongguo Biaomian Gongcheng)
巻： 30  号： 4  ページ： 14-18  発行年： 2017年 
JST資料番号： C2759A  ISSN： 1007-9289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 材料の照射損傷の発生メカニズムと欠陥のリアルタイム変化過程を研究するために、GIC4117列列加速器の従来の低エネルギー陰イオン注入プラットフォームに基づいて、スペクトル測定システムを装備し、“charge-up free”の利点を有する負イオン励起発光オンライン測定を実現した。20keVのH_2O_2による20μg/g,100μg/gの石英ガラスによる発光スペクトルの測定により,イオンビーム照射の前後のサンプルの吸収スペクトルを研究した。イオン衝撃過程において,発光中心の数は,最初に増加し,次に,平衡状態にゆっくりと減衰した。青色と赤色バンドの発光ピークの発光比は表面構造の影響を受けて、3~4の間に安定しており、MeVH+励起の産出額比より低い。照射前後の吸収スペクトルによって反映された欠陥濃度変化はイオン励起石英ガラスのスペクトル強度変化と一致した。ヒドロキシル基含量の高い石英ガラスは発光スペクトル強度が低く、吸収スペクトル強度の照射前後で相対的変化が小さく、対応する生成したフレネル欠陥の数が少ない。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 吸収スペクトル ,  発光中心 ,  イオン照射 ,  *励起 ,  *アニオン ,  照射損傷 ,  *発光 ,  *水素 ,  発光スペクトル ,  イオン注入 ,  イオン衝突 ,  *石英ガラス ,  表面構造 ,  スペクトル線強度
準シソーラス用語： *低エネルギー , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： negative ions ,  silica glass ,  luminescence ,  silanol group ,  defects

分類 (1件)： その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 低エネルギー ,  水素 ,  アニオン ,  励起 ,  石英ガラス